第1606章 多重曝光（1 / 2）

第1606章 多重曝光

三天后，未来信息产业大会圆满落幕。

常浩南婉拒了后续的交流活动，在周学和两名便装警卫的陪同下，乘坐一辆低调的中巴车，直奔华芯国际设置在津门海河新区的生产与研发基地。

按照常浩南本人的要求，基地没有设置盛大的欢迎仪式。

只有负责人黄炜和提前一天回津的技术总监吴明翰，以及几名核心技术人员安静地等候。

看到常浩南下车，为首两人立刻迎上前。

简短的寒暄后，常浩南一行人便在专人引导下，前往更衣区。

晶圆制造对洁净度的要求比手术室严格百倍，因此在进入核心区域之前，必须换上全套特制的无尘服，并经过严格的风淋除尘程序。

踏出气动闸门之后，空气里就只剩下特有的洁净室气味，以及微弱的机器嗡鸣。

透过观察窗，可以看到一批完成抛光和清洗丶表面光洁如镜的矽片，正被机械臂精准地送入沉积区，进行着薄膜生长。

「常院士，这是我们最基础的环节之一，矽片的制备和初始加工。」黄炜的声音透过通讯系统传来，「经过表面处理丶清洗丶沉积必要的镀膜作业之后，晶圆才会进入后面的光罩制作……也就是光刻环节。」

黄炜一边介绍流程，一边注视着自动化流程的完成。

正巧，一个批次的晶圆刚刚完成镀膜，被机械臂取出。

他示意操作员取出一片样品，隔着专用视窗展示给常浩南。

晶圆表面反射着顶灯的冷光，呈现出均匀的光泽。

常浩南俯身盯着晶圆的尺寸和边缘，伸手隔着玻璃比划了一下，问道：「黄总，这一批是200mm（8英寸）？」

「是的，常院士。」黄炜肯定道，「这是我们目前量产的主力尺寸。」

旁边的吴明翰适时补充：「12英寸（300mm）的产线还在备产阶段，主要是……现在公司的资金和顶尖工程资源，绝大部分都集中投入到光刻环节的突破上，尤其是利用现有深紫外（DUV）设备攻坚更先进位程的研发。」

「不过从技术储备的角度，我们并不落后太多，一旦资金或关键设备到位，提速会很快。」

常浩南微微颔首，没有多言，示意继续前行。

「后面就是光罩制作区了。」黄炜一边引路一边介绍，「把IC设计图用电子束刻在石英片上，就能制成光罩，这个东西类似照相底片，刚才生产的晶圆就是相片纸，基本原理和洗照片差不多。」

虽然不完全准确，但足够生动，哪怕是外行也很容易理解。

「这里是我们给客户提供代工服务的主力区域。」黄炜指着几台正在运行的光刻机介绍：「除了满足国内IC设计公司的需求之外，我们也承接像德州仪器等国际厂商的部分订单。」

常浩南微微露出惊讶的表情，只是隔着面罩展现不出来。

「还有外国订单？」

「嗯，产品主要面向国内和中亚市场。」吴明翰解释道，「中低水平制程这块，我们流片的良率和速度都有优势。」

常浩南突然意识到，如今半导体产业的情况，要远比自己过去那条时间线上复杂得多。

介绍间，黄炜注意到常浩南的目光并未停留在运行中的量产设备上，而是投向了不远处一个被透明围挡隔开的区域。

那里同样属于光罩制作区，但周围聚集的技术人员更多，氛围也更显紧张和专注。

「常院士，那边是我们的研发攻坚区。」黄炜解释道，「您也看到了，生产和研发在光刻这个环节，很多时候是共用同一条线，设备和技术是互通的。」

「那边就是在尝试双重甚至四重曝光技术，目标是用我们现有的NXT:1950i DUV光刻机，向更小的特徵尺寸发起冲击。」

常浩南的目光转向吴明翰：「这就是之前您提到的，良品率最低丶成本最高的环节？」

吴明翰脸上浮现出复杂的神情。

他没有直接回答，而是引着常浩南走向该区域旁边一个专门的陈列台。